四重曝光概念股

概念题材16 只成份股
四重曝光技术是在半导体制造过程中,通过特定的工艺步骤,在同一片晶圆上连续进行四次曝光,以实现更精细的图案化和更高的集成度。这种技术不仅提高了芯片的性能,还降低了制造成本,是半导体行业的一项重要创新‌。

成份股与龙头股名单如下:

国风新材000859SZ
注册资本: 89598 万元
奥普光电002338SZ
注册资本: 24000 万元
南大光电300346SZ
注册资本: 69116 万元
强力新材300429SZ
注册资本: 55546 万元
世名科技300522SZ
注册资本: 32245 万元
容大感光300576SZ
注册资本: 40369 万元
七彩化学300758SZ
注册资本: 39912 万元
国林科技300786SZ
注册资本: 18402 万元
翰博高新301321SZ
注册资本: 18644 万元
凯盛科技600552SH
注册资本: 94461 万元
华懋科技603306SH
注册资本: 32950 万元
彤程新材603650SH
注册资本: 61607 万元
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